All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

The Influence of Technological Process on Properties of Thin Film Capacitors

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21230%2F08%3A03147510" target="_blank" >RIV/68407700:21230/08:03147510 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    angličtina

  • Original language name

    The Influence of Technological Process on Properties of Thin Film Capacitors

  • Original language description

    The work is focused on problematic of thin film dielectric layers prepared by sputtering technology. The dielectric layer made from corundum and aluminum nitride were prepared and analyzed. Dependence of properties (capacity) on parameters of technological process of deposition of layer was analyzed. Sputter deposition of dielectric layers is realized by sputtering at high frequency.

  • Czech name

    Vliv technologického procesu na vlastnosti tenkovrstvého kondenzátoru

  • Czech description

    příspěvek pojednává o problematice tenkovrstvých dielektrických vrstev vytvořených naprašováním. Analyzovány byly dielektrické vrstvy z korundu a aluminium nitridu. Byla sledována kapacita v závislosti na podmínkách procesu naprašování. Bylo použito vysokofrekvenčního naprašování.

Classification

  • Type

    D - Article in proceedings

  • CEP classification

    JA - Electronics and optoelectronics

  • OECD FORD branch

Result continuities

  • Project

  • Continuities

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Others

  • Publication year

    2008

  • Confidentiality

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Data specific for result type

  • Article name in the collection

    Electronics Devices and Systems Proceedings

  • ISBN

    978-80-214-3717-3

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Number of pages

    4

  • Pages from-to

  • Publisher name

    Vysoké učení technické v Brně

  • Place of publication

    Brno

  • Event location

    Brno

  • Event date

    Sep 10, 2008

  • Type of event by nationality

    EUR - Evropská akce

  • UT code for WoS article