2D sliding bench for lithographic exposure

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21230%2F13%3A00210005" target="_blank" >RIV/68407700:21230/13:00210005 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

čeština

Original language name

2D posuvná lavice pro litografický osvit

Original language description

Posuvná lavice slouží k přesnému nastavení substrátu v rovině při osvitu během litografické výroby struktur. Je využitelná pro osvit na gelovou masku nebo pro přímý osvit na finální substrát. Funkční vzorek vzniknul zejména pro přípravu jednoduchých mikroelektromechanických struktur ve funkci senzorů plynů (SAW struktury, nanášení aktivní substancí pro vodivostní senzory, dostavování a trimování mikromechanických struktur). Osvit probíhá pomocí objektivu a zvětšené předlohy na dané vlnové délce (tento osvit není součástí funkčního vzorku). Funkční vzorek umožňuje replikaci jedné struktury na větší plochu masky (substrátu) a automatizované nastavení intenzity a délky osvitu. Lavici je rovněž možno využít pro přímé vykreslování jednoduchých struktur do fotorezistu. Teoretické minimální rozlišení lavice v obou směrech je 3,5 ?m (dáno stoupáním závitové tyče a počtem kroků motoru na otáčku), praktické rozlišení je 300 ?m (dáno tuhostí celé konstrukce a rovinností vodicích tyčí) a opakovate

Czech name

2D posuvná lavice pro litografický osvit

Czech description

Posuvná lavice slouží k přesnému nastavení substrátu v rovině při osvitu během litografické výroby struktur. Je využitelná pro osvit na gelovou masku nebo pro přímý osvit na finální substrát. Funkční vzorek vzniknul zejména pro přípravu jednoduchých mikroelektromechanických struktur ve funkci senzorů plynů (SAW struktury, nanášení aktivní substancí pro vodivostní senzory, dostavování a trimování mikromechanických struktur). Osvit probíhá pomocí objektivu a zvětšené předlohy na dané vlnové délce (tento osvit není součástí funkčního vzorku). Funkční vzorek umožňuje replikaci jedné struktury na větší plochu masky (substrátu) a automatizované nastavení intenzity a délky osvitu. Lavici je rovněž možno využít pro přímé vykreslování jednoduchých struktur do fotorezistu. Teoretické minimální rozlišení lavice v obou směrech je 3,5 ?m (dáno stoupáním závitové tyče a počtem kroků motoru na otáčku), praktické rozlišení je 300 ?m (dáno tuhostí celé konstrukce a rovinností vodicích tyčí) a opakovate

Type

G_funk - Functional sample

CEP classification

JA - Electronics and optoelectronics

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/VG20102015015" target="_blank" >VG20102015015: Miniature intelligent system for analyzing concentrations of gases and pollutants, particularly toxic</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2013

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Internal product ID

2D_Lavice_2013

Numerical identification

—

Technical parameters

Homtnost do 10 kg, rozměry cca 33 x 35 x 16 cm, Minimální rozlišení posuvu v obou směrech je 3,5 um, praktické rozlišení je 300 ?m, opakovatelnost lepší než 10 um. Funkční vzorek využívá ČVUT, kontakt: A.Bouřa, FEL ČVUT, bouraa@fel.cvut.cz,224352335.

Economical parameters

Celkové náklady na výrobu jsou cca 10 000 kč (materiál cca 5000 kč, frézování a sestavenícca 5000 kč)

Application category by cost

—

Owner IČO

68407700

Owner name

ČVUT FEL

Owner country

CZ - CZECH REPUBLIC

Usage type

N - Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)

Licence fee requirement

—

Web page

—