Metrologie malých struktur pro výrobu elektronických a optických zařízení

Poskytovatel
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Program
Šestý rámcový program Evropského společenství pro výzkum, technický rozvoj a demonstrační činnosti
Veřejná soutěž
FP6-2005-Energy-4
Hlavní účastníci
—
Druh soutěže
RP - Spolufinancování programu EK
Číslo smlouvy
MSMT-2490/2013-310

Název projektu anglicky
Metrology of small structures for the manufacturing of electronic and optical devices
Anotace anglicky
The aim of the project is to provide a fast and very accurate analysis of geometrical properties of nanostructures usable in industrial processes. For such purposes it is often needed to use a measurement of the light dispersion which provides on some typical samples (such as diffraction gratings) enough information about the morphology of the sample. The objective of this project is therefore to develop robust tools for light dispersion data analysis. As a supplementary method the atomic force microscopy is used which is capable to provide a direct information on morphology. It is however a slower and limited range technique. By comparison of both methods it will be possible to optimalize the process of detection of the surface morphology discovered by the optical technique and to specify particular uncertainties of such measurements. The CMI 's objective in this project is to perform a FDTD (Finite Difference in Time Domain) calculation of the light scattering.

Kategorie VaV
AP - Aplikovaný výzkum
CEP - hlavní obor
JB - Senzory, čidla, měření a regulace
CEP - vedlejší obor
BH - Optika, masery a lasery
CEP - další vedlejší obor
—
OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)
10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)<br>20201 - Electrical and electronic engineering

Hodnocení poskytovatelem
U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)
Zhodnocení výsledků projektu
V rámci projektu byly učiněny klíčové kroky pro zajištění návaznosti měření etalonů v polovodičovém průmyslu pomocí měření rozptylu, zejména vývoj zařízení v EUV a vývoj rtg. metod, numerické modelování a analýzaa nejistot.

Důvěrnost údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Systémové označení dodávky dat
CEP15-MSM-7A-U/01:1
Datum dodání záznamu
2. 7. 2015

Podobné projekty(10)