Aplikace pokročilých interferometrických metod pro měření povrchů v optické výrobě
Cíle projektu
Projekt bude zaměřen na implementaci pokročilých interferometrických metod pro potřeby měření v optické výrobě. Při jeho realizaci bude prováděn průmyslový výzkum, experimentální vývoj včetně testování interferometrických zařízení určených pro dva typy měření v procesu optické výroby. Důraz bude také kladen na výzkum a vývoj metod eliminujících vliv podmínek prostředí na interferometrické měření, který proběhne na stávajícím interferometrickém zařízení. Cílem projektu je řešit problémy nastíněné v předchozích bodech, získat nové znalosti a ověřit je formou realizace zařízení využívajících interferometrických metod. Konkrétními výsledky budou: * Prototyp interferometru pro měření rovinných ploch s eliminací parazitní interference * Užitný vzor fokus sensoru pro odměřování vzdáleností od difuzních povrchů * Prototyp měřící sondy pro přesné odměřování vzdáleností od povrchů různé drsnosti * Software pro řízení interferometru pro měření optických ploch s důrazem kladeným na minimalizaci vlivů prostředí
Klíčová slova
applicationinterferometric methodsmeasurementsurfacesopticalproduction
Veřejná podpora
Poskytovatel
Ministerstvo průmyslu a obchodu
Program
Operační program Podnikání a inovace pro konkurenceschopnost
Veřejná soutěž
—
Hlavní účastníci
Meopta - optika, s.r.o.
Druh soutěže
OP - Operační program EU
Číslo smlouvy
MPO 13742/17/61600/663
Alternativní jazyk
Název projektu anglicky
Application of advanced interferometric methods for measurement of surfaces in optical production
Anotace anglicky
Application of advanced interferometric methods for measurement of surfaces in optical production
Vědní obory
Kategorie VaV
VV - Experimentální vývoj
CEP - hlavní obor
BH - Optika, masery a lasery
CEP - vedlejší obor
—
CEP - další vedlejší obor
—
OECD FORD - odpovídající obory
(dle převodníku)10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)
Hodnocení dokončeného projektu
Hodnocení poskytovatelem
U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)
Zhodnocení výsledků projektu
Výsledkem projektu jsou dva prototypy: interferometr pro měření rovinných ploch s eliminací parazitní interference, antivibrační báze pro interferometrické zařízení pro měření kvality ploch řešený s ohledem na reálné podmínky prostředí optické výroby. Ověřená technologie výroby interferometru. Software pro řízení interferometru pro měření optických ploch s důrazem kladeným na minimalizaci vlivů prostředí a dva užitné vzory: fokus sensor pro odměřovaní vzdálenosti od difuzních povrchů a zdroj záření s krátkou koherenční délkou.
Termíny řešení
Zahájení řešení
30. 9. 2015
Ukončení řešení
29. 5. 2020
Poslední stav řešení
U - Ukončený projekt
Poslední uvolnění podpory
13. 10. 2017
Dodání dat do CEP
Důvěrnost údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Systémové označení dodávky dat
CEP21-MPO-EG-U/01:1
Datum dodání záznamu
9. 6. 2021
Finance
Celkové uznané náklady
45 501 tis. Kč
Výše podpory ze státního rozpočtu
9 666 tis. Kč
Ostatní veřejné zdroje financování
0 tis. Kč
Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.
12 059 tis. Kč
Základní informace
Uznané náklady
45 501 tis. Kč
Statní podpora
9 666 tis. Kč
21%
Poskytovatel
Ministerstvo průmyslu a obchodu
CEP
BH - Optika, masery a lasery
Doba řešení
30. 09. 2015 - 29. 05. 2020