Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Elektronová litografie pro přípravu nanostruktur

Veřejná podpora

  • Poskytovatel

    Grantová agentura České republiky

  • Program

    Standardní projekty

  • Veřejná soutěž

    Standardní projekty 8 (SGA02005GA-ST)

  • Hlavní účastníci

  • Druh soutěže

    VS - Veřejná soutěž

  • Číslo smlouvy

Alternativní jazyk

  • Název projektu anglicky

    Electron-beam lithography for preparation of nanostructures

  • Anotace anglicky

    Actual electron-beam lithographic system BS 600 works with the limit resolution of 0.1 microns. Recently,we have received a couple of requirements for production of structures with better resolution.The aim of this project is to study a preparation of structures with the resolution below 100 nanometers. Thesolution has to address both the system part of the lithograph and the technological tissues concerning such a high resolution. As a result, nanostructures with extremely high resolution will be

Vědní obory

  • Kategorie VaV

    ZV - Základní výzkum

  • CEP - hlavní obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • CEP - vedlejší obor

    JB - Senzory, čidla, měření a regulace

  • CEP - další vedlejší obor

  • OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)

    20201 - Electrical and electronic engineering

Hodnocení dokončeného projektu

  • Hodnocení poskytovatelem

    U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)

  • Zhodnocení výsledků projektu

    V rámci řešení projektu bylo dosaženo zlepšení parametrů vlastního litografu i celé litografické technologie. Nosné body zahrnují zejména:Zmenšení minimálního rozměru svazku 2x (z původních 100 nm na 50 nm); praktické realizaci předcházela důsledná teore

Termíny řešení

  • Zahájení řešení

    1. 1. 2005

  • Ukončení řešení

    1. 1. 2006

  • Poslední stav řešení

    U - Ukončený projekt

  • Poslední uvolnění podpory

Dodání dat do CEP

  • Důvěrnost údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

  • Systémové označení dodávky dat

    CEP07-GA0-GA-U/03:2

  • Datum dodání záznamu

    16. 10. 2007

Finance

  • Celkové uznané náklady

    1 700 tis. Kč

  • Výše podpory ze státního rozpočtu

    1 631 tis. Kč

  • Ostatní veřejné zdroje financování

    0 tis. Kč

  • Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

    138 tis. Kč