Vše
Vše

Co hledáte?

Vše
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Nanostrukturování povrchů extrémním ultrafialovým a rentgenovým laserovým zářením

Cíle projektu

Nové zdroje intenzívního koherentního krátkovlnného záření, tedy XUV/rtg. lasery s vysokoteplotním plazmatem nebo svazkem relativistických elektronů, představují nadějný nástroj přímého nanostrukturování povrchů různých materiálů, neboť mohou ablačně či desorpčně otisknout obrazec s detaily srovnatelnými s vlnovou délkou záření. Klíčovou výhodou XUV/rtg. laserů pro přípravu nanostruktur požadovaného profilu je unikátní kombinace krátké vlnové délky, vysokého stupně koherence a extrémního špičkového výkonu. Existence určité prahové fluence potřebné k přímému strukturování povrchu vyžaduje právě dostatek výkonu ve fokusovaném svazku. Ačkoliv zdroje typu vysokých harmonických nebo nekoherentní plazmové zdroje vyvíjené pro extrémní ultrafialovou lithografii mohou také posloužit k přenesení obrazce s detaily menšími než desetina mikrometru, nevyprodukují prostorovou nanostrukturu několika impulzy záření. Tento projekt je zaměřen na systematický výzkum vytváření nanostruktur na površích různých materiálů ozářených intenzívním krátkovlnným zářením a objasnění mechanismu jejich vzniku.

Klíčová slova

nanostructuressolid surfacesextreme ultraviolet radiationX-rayslaser ablationlaser desorptionlaser-induced periodic surface structures (LIPSS)

Veřejná podpora

  • Poskytovatel

    Grantová agentura České republiky

  • Program

    Standardní projekty

  • Veřejná soutěž

    Standardní projekty 18 (SGA0201400001)

  • Hlavní účastníci

    Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i.

  • Druh soutěže

    VS - Veřejná soutěž

  • Číslo smlouvy

    14-29772S

Alternativní jazyk

  • Název projektu anglicky

    Surface nanostructuring by extreme ultraviolet and X-ray laser radiation

  • Anotace anglicky

    The new sources of intense coherent short-wavelength radiation, i.e., plasma and e-beam based XUV/X-ray lasers, represent promising tools for the direct nano-patterning of solids, as they enable the ablation (desorption) printing of features with dimensions comparable to the wavelength. A key advantage of the XUV/X-ray lasers for fabrication of tailored nanostructures is the unique combination of exceptionally short wavelength, very good coherence, and high peak power. Certain thresholds for materials processing require XUV/X-ray sources to deliver enough fluence and thus sufficiently high power to the irradiated surface area. Although high-order harmonics and non-coherent sources developed for EUV lithography can also pattern material surfaces with nanometer precision, they cannot directly produce three-dimensional nanostructures using a few shots in a single processing step. In this project, a systematic investigation of spontaneously grown (LIPSS) and externally created (mask projection) nano-patterns on XUV/X-ray laser-irradiated surfaces is proposed.

Vědní obory

  • Kategorie VaV

    ZV - Základní výzkum

  • CEP - hlavní obor

    BH - Optika, masery a lasery

  • CEP - vedlejší obor

  • CEP - další vedlejší obor

  • OECD FORD - odpovídající obory
    (dle převodníku)

    10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)

Hodnocení dokončeného projektu

  • Hodnocení poskytovatelem

    U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)

  • Zhodnocení výsledků projektu

    Cíle projektu zaměřeného na výzkum zdrojů extrémně UV a rentgenového laserového záření a na vytváření nanostrukturovaných povrchů pomocí těchto zdrojů byly splněny v souladu s návrhem. Výsledky byly publikovány v 7 impaktovaných publikacích a 5 příspěvcích ve sbornících. Byly získány nové znalosti o interakci XUV záření s hmotou a o procesech souvisejících se vznikem periodických nanostruktur.

Termíny řešení

  • Zahájení řešení

    1. 1. 2014

  • Ukončení řešení

    7. 12. 2017

  • Poslední stav řešení

    U - Ukončený projekt

  • Poslední uvolnění podpory

    12. 4. 2016

Dodání dat do CEP

  • Důvěrnost údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

  • Systémové označení dodávky dat

    CEP18-GA0-GA-U/02:1

  • Datum dodání záznamu

    4. 5. 2018

Finance

  • Celkové uznané náklady

    7 515 tis. Kč

  • Výše podpory ze státního rozpočtu

    7 515 tis. Kč

  • Ostatní veřejné zdroje financování

    0 tis. Kč

  • Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

    0 tis. Kč

Základní informace

Uznané náklady

7 515 tis. Kč

Statní podpora

7 515 tis. Kč

100%


Poskytovatel

Grantová agentura České republiky

CEP

BH - Optika, masery a lasery

Doba řešení

01. 01. 2014 - 07. 12. 2017