Vše
Vše

Co hledáte?

Vše
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Nanostrukturní povlaky syntetizované užitím vysoce reaktivního pulzního plazmatu

Cíle projektu

Cílem projektu je příprava tenkovrstvých materiálů s unikátními fyzikálními a funkčními vlastnostmi. Budou syntetizovány užitím nových vysokovýkonových pulzních magnetronových naprašovacích technik s pulzním řízením toku reaktivních plynů bez nutnosti vysokého záporného předpětí substrátů, vysokých teplot substrátů a ohřevu po depozici. Výhody nových magnetronových technik se silně ionizovaným a vysoce reaktivním pulzním plazmatem budou využity při reaktivní depozici oxynitridových povlaků (např. AlON, WON a MoON) s laditelným složením a vlastnostmi a termochromických vrstev na bázi VO2 za nízkých teplot. Pulzní magnetronové techniky budou využity také při přípravě nových materiálů na bázi HfBSiCN s extrémně vysokou teplotní stabilitou ve vzduchu. Budou objasněny korelace mezi procesními parametry a prvkovým složením, strukturou a vlastnostmi vytvořených materiálů.

Klíčová slova

Nanostructured coatingsReactive magnetron sputteringHighly ionized plasmasTunable oxynitridesThermochromic VO2High-temperature HfBSiCNStructureMechanical propertiesOptical propertiesElectrical propertiesThermal stabilityMultifunctionality

Veřejná podpora

  • Poskytovatel

    Grantová agentura České republiky

  • Program

    Standardní projekty

  • Veřejná soutěž

    Standardní projekty 21 (SGA0201700001)

  • Hlavní účastníci

    Západočeská univerzita v Plzni / Fakulta aplikovaných věd

  • Druh soutěže

    VS - Veřejná soutěž

  • Číslo smlouvy

    17-08944S

Alternativní jazyk

  • Název projektu anglicky

    Nanostructured coatings synthesized using highly reactive pulsed plasmas

  • Anotace anglicky

    The aim of the project is to prepare thin-film materials with unique physical and functional properties. They will be synthesized using new high-power impulse magnetron sputtering techniques with a pulsed reactive gas flow control and without the need for high substrate bias voltages, high substrate temperatures and post-deposition annealing. Benefits of the new magnetron sputtering techniques with highly ionized and highly reactive pulsed plasmas will be utilized in a reactive deposition of oxynitride coatings (such as AlON, WON and MoON) with tunable composition and properties, and thermochromic VO2-based films at low substrate temperatures. The pulsed magnetron sputtering techniques will be also used for preparation of new HfBSiCN-based materials with extremely high thermal stability in air. The correlations between process parameters and the elemental composition, structure and properties of the formed materials will be explained.

Vědní obory

  • Kategorie VaV

    ZV - Základní výzkum

  • CEP - hlavní obor

    JI - Kompositní materiály

  • CEP - vedlejší obor

  • CEP - další vedlejší obor

  • OECD FORD - odpovídající obory
    (dle převodníku)

    20505 - Composites (including laminates, reinforced plastics, cermets, combined natural and synthetic fibre fabrics; filled composites)

Hodnocení dokončeného projektu

  • Hodnocení poskytovatelem

    U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)

  • Zhodnocení výsledků projektu

    Získané výsledky přispívají k prohloubení znalostí v oblasti nových pokročilých nanostrukturovaných multifunkčních povlaků a v oblasti reaktivního vysokovýkonného impulsního magnetronového naprašování oxidových filmů. Výsledky byly publikovány (9 příspěvků) a zaslány (2 příspěvky) do prestižních mezinárodních časopisů. Byly prezentovány na mezinárodních konferencích (včetně 9 pozvaných přednášek).

Termíny řešení

  • Zahájení řešení

    1. 1. 2017

  • Ukončení řešení

    31. 12. 2019

  • Poslední stav řešení

    U - Ukončený projekt

  • Poslední uvolnění podpory

    10. 4. 2019

Dodání dat do CEP

  • Důvěrnost údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

  • Systémové označení dodávky dat

    CEP20-GA0-GA-U/02:1

  • Datum dodání záznamu

    23. 7. 2020

Finance

  • Celkové uznané náklady

    6 288 tis. Kč

  • Výše podpory ze státního rozpočtu

    4 743 tis. Kč

  • Ostatní veřejné zdroje financování

    1 545 tis. Kč

  • Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

    0 tis. Kč

Uznané náklady

6 288 tis. Kč

Statní podpora

4 743 tis. Kč

0%


Poskytovatel

Grantová agentura České republiky

CEP

JI - Kompositní materiály

Doba řešení

01. 01. 2017 - 31. 12. 2019