Vše
Vše

Co hledáte?

Vše
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Růst a zpracování gafenových vrstev na karbidu křemíku

Cíle projektu

Předkládaný projekt je zaměřen na růst tenkých grafenových vrstev na substrátech monokrystalického SiC a na studium procesů, které vedou k přeměně kontaktních struktur na bázi Ni/SiC ze Schottkyho přechodu do ohmického kontaktu. Ni/SiC struktura spojujedvě navrhované problematiky do jednoho komplexu, protože tato struktura se používá jako ohmický kontakt a zároveň může být zdrojem grafenové vrstvy. V projektu je plánováno studium procesů růstu grafenu prostřednictvím žíhání již zmíněné struktury Ni/SiCza nízkých teplot a grafitizací SiC v argonové atmosféře za vysoké teploty. Grafenové vrstvy budou analyzovány Ramanovou spektroskopií, AFM mikroskopií a XPS analýzou. Dále budeme zkoumat možnosti tvarování grafenových vrstev skenovacími hrotovými metodami a elektronovou litografií. Další část výzkumu bude orientována na studium VLS epitaxního růstu karbidu křemíku a na aplikaci tohoto růstu v přípravě ohmických kontaktních struktur.

Klíčová slova

carbongraphenesiliconcarbideAFMRamanspectroscopyelectronlithography

Veřejná podpora

  • Poskytovatel

    Grantová agentura České republiky

  • Program

    Standardní projekty

  • Veřejná soutěž

    Standardní projekty 14 (SGA02011GA-ST)

  • Hlavní účastníci

  • Druh soutěže

    VS - Veřejná soutěž

  • Číslo smlouvy

    P108-11-0894

Alternativní jazyk

  • Název projektu anglicky

    Growth and processing of graphene layers on silicon carbide

  • Anotace anglicky

    The project is targeted to the growth of thin graphene layers on SiC monocrystaline substrates and to the study of processes which lead to the conversion of Ni-type contact structures on SiC from Schottky to ohmic behaviour. The Ni/SiC structure connectsboth proposed fields of study into one. The structure serves for the contact metallization and it can be the source of graphene layer as well. We plan to study the processes of grephene growth by means of the low temperature annealing of the mentioned Ni/SiC structure and by the graphitization of SiC in an argon atmosphere at high temperature. The graphene layers will be analyzed by Raman spectroscopy, AFM microscopy and XPS analysis. We will analyze the possibilities of graphene nanopatterning by means of scanning probe methods and by electron beam lithography. The other part of research will be oriented to the study of VLS epitaxial growth of silicon carbide and to the application of the growth in the preparation of ohmic contact structures.

Vědní obory

  • Kategorie VaV

    ZV - Základní výzkum

  • CEP - hlavní obor

    CA - Anorganická chemie

  • CEP - vedlejší obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • CEP - další vedlejší obor

    JJ - Ostatní materiály

  • OECD FORD - odpovídající obory
    (dle převodníku)

    10402 - Inorganic and nuclear chemistry
    20201 - Electrical and electronic engineering
    20502 - Paper and wood
    20503 - Textiles; including synthetic dyes, colours, fibres (nanoscale materials to be 2.10; biomaterials to be 2.9)
    21001 - Nano-materials (production and properties)
    21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Hodnocení dokončeného projektu

  • Hodnocení poskytovatelem

    U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)

  • Zhodnocení výsledků projektu

    V rámci projektu byla popsána a publikována řada zajímavých výsledků o přípravě a charakterizaci grafenových vrstev na karbidu křemíku. Cíle projektu byly splněny. Výsledky řešení projektu jsou soustředěny do 6 publikací Jimp. Projekt přispěl k výchově ?

Termíny řešení

  • Zahájení řešení

    1. 1. 2011

  • Ukončení řešení

    31. 12. 2014

  • Poslední stav řešení

    U - Ukončený projekt

  • Poslední uvolnění podpory

    18. 4. 2014

Dodání dat do CEP

  • Důvěrnost údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

  • Systémové označení dodávky dat

    CEP15-GA0-GA-U/01:1

  • Datum dodání záznamu

    22. 5. 2015

Finance

  • Celkové uznané náklady

    4 916 tis. Kč

  • Výše podpory ze státního rozpočtu

    4 916 tis. Kč

  • Ostatní veřejné zdroje financování

    0 tis. Kč

  • Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

    0 tis. Kč

Uznané náklady

4 916 tis. Kč

Statní podpora

4 916 tis. Kč

0%


Poskytovatel

Grantová agentura České republiky

CEP

CA - Anorganická chemie

Doba řešení

01. 01. 2011 - 31. 12. 2014