Mikro- a nanostruktury realizované v mikroelektronických technologiích

Poskytovatel

Grantová agentura České republiky

Program

Postdoktorandské granty

Veřejná soutěž

Standardní projekty 7 (SGA02004GA1PD)

Hlavní účastníci

—

Druh soutěže

VS - Veřejná soutěž

Číslo smlouvy

—

Název projektu anglicky

Micro- and nanomachining structures fabricated by microelectronics technologies

Anotace anglicky

The proposed project facilitates an establishment of new technologies in the current thin-film laboratory at the BUT Department of Microelectronics. It will bring technology association of laboratories focused on techniques for fabrication of micro- andnanomachining systems in sensors and in semiconductor industry. The main benefit will be also to make technology available for requirements of Czech and foreign scientist laboratories. Techniques facilitating a realization of MEMS will be developed usingnew nanostructured materials and special attention will be focused on an utilisation of this materials and processes of the fabrication for masks of integrated circuits to achieve line resolution below 100 nm. We expect to develop techniques of a metal deposition via nanostructured mask. It gives us a modification possibilities of metal surface (e.g. electrodes), where better parameters of the planar form are expected, and for fabrication of nanocrystals used in solar techniques, and deposition of

Kategorie VaV

ZV - Základní výzkum

CEP - hlavní obor

JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

CEP - vedlejší obor

JB - Senzory, čidla, měření a regulace

CEP - další vedlejší obor

—

OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)

20201 - Electrical and electronic engineering

Hodnocení poskytovatelem

U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)

Zhodnocení výsledků projektu

Cílem práce bylo nalézt techniky vytváření nanostruktur pomocí masky a vytvořit síť spolupracujících pracovišť AVČR. V prvním dílčím kroku byla zvládnuta výroba nanoporézní masky a její vytváření na tenké vrstvě anodizací. Anodizace byla nejdříve ověřena

Zahájení řešení

1. 1. 2004

Ukončení řešení

1. 1. 2006

Poslední stav řešení

U - Ukončený projekt

Poslední uvolnění podpory

—

Důvěrnost údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Systémové označení dodávky dat

CEP07-GA0-GP-U/03:2

Datum dodání záznamu

16. 10. 2007

Celkové uznané náklady

925 tis. Kč

Výše podpory ze státního rozpočtu

925 tis. Kč

Ostatní veřejné zdroje financování

0 tis. Kč

Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

0 tis. Kč