Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Výzkum parametrů nízkoteplotního plazmatu v systémech planárního magnetronu, systémů s dutými katodami a mikrovlnného surfatronu

Veřejná podpora

  • Poskytovatel

    Grantová agentura České republiky

  • Program

    Postdoktorandské granty

  • Veřejná soutěž

    Postdoktorandské granty 9 (SGA02009GA1PD)

  • Hlavní účastníci

  • Druh soutěže

    VS - Veřejná soutěž

  • Číslo smlouvy

    202/09/P159

Alternativní jazyk

  • Název projektu anglicky

    An investigation of low-temperature plasma in systems of a planar magnetron, in systems with hollow cathodes and a microwave surfatron

  • Anotace anglicky

    The essence of suggested project is a purposeful investigation of plasma parameters in the low-pressure technological plasma reactors utilized for deposition of thin films. In the present time, there are several wholly different plasma sources - a planarmagnetron, a plasma jet with hollow cathode, a microwave surfatron - dedicated for preparation of specific thin films and coatings, which are successfully used in the division of Optics of the Institute of Physics of the AS CR for deposition of thin films of perovskite oxides (STO, BTO, BSTO, PZT), TiOx, piezoelectric ZnO etc. on substrates made of various materials, e.g. polymers. A previous research showed that properties of thin films could be radically different if prepared by means of above mentioned plasma deposition systems. Therefore, it is desirable to investigate in detail attributes of these discharges and to carry out a basic comparative study of the plasma parameters, total energy flux density on a substrate and the properties of deposited thin films among these plasma sources. Then acquired knowledge should enable us partly to understand plasma properties of different plasma sources and to optimize the deposition process in the better way for concrete thin films by choosing of  appropriate plasma source or their mutual combination.

Vědní obory

  • Kategorie VaV

    ZV - Základní výzkum

  • CEP - hlavní obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • CEP - vedlejší obor

  • CEP - další vedlejší obor

  • OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Hodnocení dokončeného projektu

  • Hodnocení poskytovatelem

    V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)

  • Zhodnocení výsledků projektu

    Řešení projektu proběhlo na vynikající úrovni, a to jak z hlediska odborného tak i z hlediska čerpání finančních prostředků.

Termíny řešení

  • Zahájení řešení

    1. 1. 2009

  • Ukončení řešení

    31. 12. 2011

  • Poslední stav řešení

    U - Ukončený projekt

  • Poslední uvolnění podpory

    16. 4. 2011

Dodání dat do CEP

  • Důvěrnost údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

  • Systémové označení dodávky dat

    CEP12-GA0-GP-U/03:3

  • Datum dodání záznamu

    2. 5. 2016

Finance

  • Celkové uznané náklady

    719 tis. Kč

  • Výše podpory ze státního rozpočtu

    719 tis. Kč

  • Ostatní veřejné zdroje financování

    0 tis. Kč

  • Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

    0 tis. Kč