Vše
Vše

Co hledáte?

Vše
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”
ME 173

Magnetronové napracování tenkých vrstev

Cíle projektu

Hlavním cílem projektu je vývoj nové generace materiálů na bázi magnetronově napracovaných nanokompozitních povlaků. Projekt se soustředí na řešení následujících problémů: 1. Výzkum fyzikální podstaty vytváření nanokrystalických, dvou a více fázových nanokompozitních vrstev, zejména mechanismů zastavujících růst zrn, procesu selektivního reaktivního magnetronového napracování, segregace atomu na hranicích zrn při nízkých teplotách blízkých k teplotě pokojové, tepelné stability povlaku a závislosti vlastnosti vrstev na rozměrech zrn. 2. Vývoj nové generace tvrdých nanokompozitních povlaků obsahujících velmi tvrdá nanokrystalická zrna uložená v měkké i tvrdé matrici, např. CrN/Ni, ZrN/Cu, TiN/Cu,Ni,Co, TiN/Si3N4. 3.Vývoj nových napracovacích systémůpro vytváření nanokrystalických a nanokompozitních vrstev.

Klíčová slova

Plasma physics; physics of thin films; plasma technologiesnew materialsmagnetron sputteringnanocrystalline and nanocomposite coatingshard and superhard films

Veřejná podpora

  • Poskytovatel

    Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy

  • Program

    KONTAKT

  • Veřejná soutěž

  • Hlavní účastníci

    Západočeská univerzita v Plzni / Fakulta aplikovaných věd

  • Druh soutěže

    VS - Veřejná soutěž

  • Číslo smlouvy

Alternativní jazyk

  • Název projektu anglicky

    Magnetron sputtering of thin films

  • Anotace anglicky

    The development of a new generation of materials based on sputtered nanocomposite coatings. The project concentrates on the solution of the following problems: (1) The physical investigation of the formation of nanocrystalline and nanocomposite films, particularly the mechanisms for stopping of the growth of grains, process of selective reactive magnetron sputtering, segregation of atoms to boundaries of grains at low temperatures close to room temperature, thermal stability of films and dependences otheir properties on the grain size, (2) The development of a new generation of hard nanocomposite films composed of hard nanocrystalline grains embedded in a soft matrix and a hard matrix, e.g. CrN/Ni, ZrN/Cu, TiN/Cu,Ni,Co, TiN/Si3N4. and (3) The development of new sputtering systems for production of nanocrystalline and nanocomposite films. This project contributes not only to new knowledge in the physics but also enables to develop new materials with small grains of about 10 nm and smaller.

Vědní obory

  • Kategorie VaV

  • CEP - hlavní obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • CEP - vedlejší obor

    JJ - Ostatní materiály

  • CEP - další vedlejší obor

  • OECD FORD - odpovídající obory
    (dle převodníku)

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
    20502 - Paper and wood
    20503 - Textiles; including synthetic dyes, colours, fibres (nanoscale materials to be 2.10; biomaterials to be 2.9)
    21001 - Nano-materials (production and properties)
    21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Hodnocení dokončeného projektu

  • Hodnocení poskytovatelem

    V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)

  • Zhodnocení výsledků projektu

    Projekt přispěl k rozvoji poznání v oblasti vytváření tvrdých nanostrukturních povlaků.

Termíny řešení

  • Zahájení řešení

    1. 1. 1998

  • Ukončení řešení

    1. 1. 2002

  • Poslední stav řešení

    U - Ukončený projekt

  • Poslední uvolnění podpory

Dodání dat do CEP

  • Důvěrnost údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

  • Systémové označení dodávky dat

    CEP/2003/MSM/MSM3ME/U/N/8:4

  • Datum dodání záznamu

    22. 5. 2009

Finance

  • Celkové uznané náklady

    10 600 tis. Kč

  • Výše podpory ze státního rozpočtu

    2 100 tis. Kč

  • Ostatní veřejné zdroje financování

    0 tis. Kč

  • Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

    7 400 tis. Kč

Základní informace

Uznané náklady

10 600 tis. Kč

Statní podpora

2 100 tis. Kč

19%


Poskytovatel

Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy

CEP

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

Doba řešení

01. 01. 1998 - 01. 01. 2002