Magnetronové napracování tenkých vrstev
Cíle projektu
Hlavním cílem projektu je vývoj nové generace materiálů na bázi magnetronově napracovaných nanokompozitních povlaků. Projekt se soustředí na řešení následujících problémů: 1. Výzkum fyzikální podstaty vytváření nanokrystalických, dvou a více fázových nanokompozitních vrstev, zejména mechanismů zastavujících růst zrn, procesu selektivního reaktivního magnetronového napracování, segregace atomu na hranicích zrn při nízkých teplotách blízkých k teplotě pokojové, tepelné stability povlaku a závislosti vlastnosti vrstev na rozměrech zrn. 2. Vývoj nové generace tvrdých nanokompozitních povlaků obsahujících velmi tvrdá nanokrystalická zrna uložená v měkké i tvrdé matrici, např. CrN/Ni, ZrN/Cu, TiN/Cu,Ni,Co, TiN/Si3N4. 3.Vývoj nových napracovacích systémůpro vytváření nanokrystalických a nanokompozitních vrstev.
Klíčová slova
Plasma physics; physics of thin films; plasma technologiesnew materialsmagnetron sputteringnanocrystalline and nanocomposite coatingshard and superhard films
Veřejná podpora
Poskytovatel
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Program
KONTAKT
Veřejná soutěž
—
Hlavní účastníci
Západočeská univerzita v Plzni / Fakulta aplikovaných věd
Druh soutěže
VS - Veřejná soutěž
Číslo smlouvy
—
Alternativní jazyk
Název projektu anglicky
Magnetron sputtering of thin films
Anotace anglicky
The development of a new generation of materials based on sputtered nanocomposite coatings. The project concentrates on the solution of the following problems: (1) The physical investigation of the formation of nanocrystalline and nanocomposite films, particularly the mechanisms for stopping of the growth of grains, process of selective reactive magnetron sputtering, segregation of atoms to boundaries of grains at low temperatures close to room temperature, thermal stability of films and dependences otheir properties on the grain size, (2) The development of a new generation of hard nanocomposite films composed of hard nanocrystalline grains embedded in a soft matrix and a hard matrix, e.g. CrN/Ni, ZrN/Cu, TiN/Cu,Ni,Co, TiN/Si3N4. and (3) The development of new sputtering systems for production of nanocrystalline and nanocomposite films. This project contributes not only to new knowledge in the physics but also enables to develop new materials with small grains of about 10 nm and smaller.
Vědní obory
Kategorie VaV
—
CEP - hlavní obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
CEP - vedlejší obor
JJ - Ostatní materiály
CEP - další vedlejší obor
—
OECD FORD - odpovídající obory
(dle převodníku)10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
20502 - Paper and wood
20503 - Textiles; including synthetic dyes, colours, fibres (nanoscale materials to be 2.10; biomaterials to be 2.9)
21001 - Nano-materials (production and properties)
21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)
Hodnocení dokončeného projektu
Hodnocení poskytovatelem
V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)
Zhodnocení výsledků projektu
Projekt přispěl k rozvoji poznání v oblasti vytváření tvrdých nanostrukturních povlaků.
Termíny řešení
Zahájení řešení
1. 1. 1998
Ukončení řešení
1. 1. 2002
Poslední stav řešení
U - Ukončený projekt
Poslední uvolnění podpory
—
Dodání dat do CEP
Důvěrnost údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Systémové označení dodávky dat
CEP/2003/MSM/MSM3ME/U/N/8:4
Datum dodání záznamu
22. 5. 2009
Finance
Celkové uznané náklady
10 600 tis. Kč
Výše podpory ze státního rozpočtu
2 100 tis. Kč
Ostatní veřejné zdroje financování
0 tis. Kč
Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.
7 400 tis. Kč
Základní informace
Uznané náklady
10 600 tis. Kč
Statní podpora
2 100 tis. Kč
19%
Poskytovatel
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
CEP
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
Doba řešení
01. 01. 1998 - 01. 01. 2002