Nové systémy pro přípravu tenkých vrstev v plazmatu

Poskytovatel

Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy

Program

KONTAKT

Veřejná soutěž

—

Hlavní účastníci

Západočeská univerzita v Plzni / Fakulta aplikovaných věd

Druh soutěže

VS - Veřejná soutěž

Číslo smlouvy

—

Název projektu anglicky

New plasma systems for preparation of thin films

Anotace anglicky

A solution of fundamental problems arising in research into new plasma systems for preparation of thin films with the aim to form new materials of unique properties and to develop new techniques for high-rate deposition of the films. The project is solvein a collaboration with the Institute of Vacuum Industrial Technology at the Sung Kyun Kwan University in Suwon (Korea). The main interest is focused on the following topics: (i) Pulse techniques of magnetron sputtering, (ii) Carbon- and silicon-based thin films, (iii) Protective layers produced in microwave plasmas.

Kategorie VaV

—

CEP - hlavní obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

CEP - vedlejší obor

JJ - Ostatní materiály

CEP - další vedlejší obor

—

OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)

10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)<br>20502 - Paper and wood<br>20503 - Textiles; including synthetic dyes, colours, fibres (nanoscale materials to be 2.10; biomaterials to be 2.9)<br>21001 - Nano-materials (production and properties)<br>21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Hodnocení poskytovatelem

V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)

Zhodnocení výsledků projektu

Rozvoj poznání v oblasti pulzních magnetronových systémů, reaktivní magnetronové depozice vrstev na bázi uhlíku a křemíku a plazmové nitridace oceli, hliníku a hliníkových slitin

Zahájení řešení

1. 1. 1998

Ukončení řešení

1. 1. 2002

Poslední stav řešení

U - Ukončený projekt

Poslední uvolnění podpory

—

Důvěrnost údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Systémové označení dodávky dat

CEP/2003/MSM/MSM3ME/U/N/8:4

Datum dodání záznamu

22. 5. 2009

Celkové uznané náklady

7 900 tis. Kč

Výše podpory ze státního rozpočtu

2 500 tis. Kč

Ostatní veřejné zdroje financování

0 tis. Kč

Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

7 400 tis. Kč