Nové systémy pro přípravu tenkých vrstev v plazmatu
Cíle projektu
Předmětem navrženého projektu je výzkum nových systémů pro přípravu tenkých vrstev v plazmatu s cílem vytvořit nové materiály unikátních vlastností a vyvinout novou technologii pro velmi rychlé nanášení vrstev jako možnou náhradu galvanických procesů s negativním vlivem na životní prostředí. Projekt bude zaměřen na následující problematiku: 1. Pulzní magnetronové napracování vrstev. 2. Tenké vrstvy na bázi uhlíku a křemíku. 3. Ochranné povlaky vytvářené v mikrovlnném plazmatu.
Klíčová slova
Plasma systemsthin filmsprotective layersnew materialshigh-rate depositionpulse techniquesmagnetron sputteringmicrowave plasmascarbon-based filmssilicon-based films
Veřejná podpora
Poskytovatel
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Program
KONTAKT
Veřejná soutěž
—
Hlavní účastníci
Západočeská univerzita v Plzni / Fakulta aplikovaných věd
Druh soutěže
VS - Veřejná soutěž
Číslo smlouvy
—
Alternativní jazyk
Název projektu anglicky
New plasma systems for preparation of thin films
Anotace anglicky
A solution of fundamental problems arising in research into new plasma systems for preparation of thin films with the aim to form new materials of unique properties and to develop new techniques for high-rate deposition of the films. The project is solvein a collaboration with the Institute of Vacuum Industrial Technology at the Sung Kyun Kwan University in Suwon (Korea). The main interest is focused on the following topics: (i) Pulse techniques of magnetron sputtering, (ii) Carbon- and silicon-based thin films, (iii) Protective layers produced in microwave plasmas.
Vědní obory
Kategorie VaV
—
CEP - hlavní obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
CEP - vedlejší obor
JJ - Ostatní materiály
CEP - další vedlejší obor
—
OECD FORD - odpovídající obory
(dle převodníku)10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
20502 - Paper and wood
20503 - Textiles; including synthetic dyes, colours, fibres (nanoscale materials to be 2.10; biomaterials to be 2.9)
21001 - Nano-materials (production and properties)
21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)
Hodnocení dokončeného projektu
Hodnocení poskytovatelem
V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)
Zhodnocení výsledků projektu
Rozvoj poznání v oblasti pulzních magnetronových systémů, reaktivní magnetronové depozice vrstev na bázi uhlíku a křemíku a plazmové nitridace oceli, hliníku a hliníkových slitin
Termíny řešení
Zahájení řešení
1. 1. 1998
Ukončení řešení
1. 1. 2002
Poslední stav řešení
U - Ukončený projekt
Poslední uvolnění podpory
—
Dodání dat do CEP
Důvěrnost údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Systémové označení dodávky dat
CEP/2003/MSM/MSM3ME/U/N/8:4
Datum dodání záznamu
22. 5. 2009
Finance
Celkové uznané náklady
7 900 tis. Kč
Výše podpory ze státního rozpočtu
2 500 tis. Kč
Ostatní veřejné zdroje financování
0 tis. Kč
Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.
7 400 tis. Kč
Základní informace
Uznané náklady
7 900 tis. Kč
Statní podpora
2 500 tis. Kč
31%
Poskytovatel
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
CEP
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
Doba řešení
01. 01. 1998 - 01. 01. 2002