Studium reaktivity organosilikonových monomerů v depozičním plazmatu

Název projektu anglicky
Study of reactivity of organosilicon monomers in plasma environment
Anotace anglicky
The low pressure plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) of thin films using organosilicon monomers will be studied. Especially, we will concentrate on the deposition of a new kind of hard diamond-like carbon films with small silicon oxide con, tent deposited from the mixture of methane and organosilicon monomer, particularly hexamethyldisiloxane (HMDSO), optionally with farther addition of hydrogen or argon. We will study the improvement of mechanical properties of these films and compare itw, ith the film optical properties, film structure and composition. We will determine the correlation between optical properties and film structure and composition in the case of organosilicon plasma polymers deposited from the mixture of HMDSO and oxygen., Further we will carry out experiments with atmospheric pressure PECVD using HMDSO in order to find some optimum conditions for such a new kind of deposition technique. In accordance to these deposition experiments we will study the rate constant of

Kategorie VaV
NV - Neprůmyslový výzkum (aplikovaný výzkum s výjimkou průmyslového)
CEP - hlavní obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
CEP - vedlejší obor
CC - Organická chemie
CEP - další vedlejší obor
—
OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)<br>10401 - Organic chemistry

Hodnocení poskytovatelem
U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)
Zhodnocení výsledků projektu
Studována reaktivita monomerů

Důvěrnost údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Systémové označení dodávky dat
CEP06-MSM-ME-U/04:2
Datum dodání záznamu
28. 5. 2008

Cíle projektu