Vše
Vše

Co hledáte?

Vše
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”
ME 673

Nové zdroje plazmatu pro vytváření tenkých vrstev

Cíle projektu

Předmětem navrženého projektu je výzkum nových systémů pro přípravu tenkých vrstev v plazmatu s cílem vytvořit nové materiály unikátních vlastností, objasnit složité procesy při jejich přípravě a zvýšit rychlost jejich vytváření.

Klíčová slova

new resources of plasma for creation of thiny layersimprovement of screations speedrevelation of processes,which are happening during layers preparation

Veřejná podpora

  • Poskytovatel

    Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy

  • Program

    KONTAKT

  • Veřejná soutěž

    KONTAKT 3 (SMSM200300003)

  • Hlavní účastníci

  • Druh soutěže

    VS - Veřejná soutěž

  • Číslo smlouvy

    25 735/2003-32

Alternativní jazyk

  • Název projektu anglicky

    New resources of plasma for creation of thiny layers.

  • Anotace anglicky

    Goal of project is to find new resources of plasma for creation of thiny layers.Spetial attention will be paid on improvement of screations speed and on revelation of processes,which are happening during layers preparation.

Vědní obory

  • Kategorie VaV

    NV - Neprůmyslový výzkum (aplikovaný výzkum s výjimkou průmyslového)

  • CEP - hlavní obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • CEP - vedlejší obor

  • CEP - další vedlejší obor

  • OECD FORD - odpovídající obory
    (dle převodníku)

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Hodnocení dokončeného projektu

  • Hodnocení poskytovatelem

    V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)

  • Zhodnocení výsledků projektu

    Byly získány nové výsledky v obl. vysokovýkonového pulzního naprašování vrstev kovů (Cu a Ti) a pulzní reaktivní magnetronové depozice fotokatalytických vrstev Ti02 a vrstev Al-Si-N s vysokou teplotní stabilitou (viz 12 čl. v mezinárodních časopisech).

Termíny řešení

  • Zahájení řešení

    1. 10. 2003

  • Ukončení řešení

    31. 12. 2007

  • Poslední stav řešení

    U - Ukončený projekt

  • Poslední uvolnění podpory

    26. 3. 2007

Dodání dat do CEP

  • Důvěrnost údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

  • Systémové označení dodávky dat

    CEP08-MSM-ME-U/02:2

  • Datum dodání záznamu

    27. 10. 2008

Finance

  • Celkové uznané náklady

    1 326 tis. Kč

  • Výše podpory ze státního rozpočtu

    1 146 tis. Kč

  • Ostatní veřejné zdroje financování

    0 tis. Kč

  • Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

    180 tis. Kč

Základní informace

Uznané náklady

1 326 tis. Kč

Statní podpora

1 146 tis. Kč

86%


Poskytovatel

Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy

CEP

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

Doba řešení

01. 10. 2003 - 31. 12. 2007