Nové postupy při depozici tenkých vrstev reaktivním magnetronovým naprašováním
Veřejná podpora
Poskytovatel
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Program
KONTAKT
Veřejná soutěž
—
Hlavní účastníci
—
Druh soutěže
M2 - Mezinárodní spolupráce
Číslo smlouvy
9113/2008-32
Alternativní jazyk
Název projektu anglicky
New procedures for thin film deposition by reaktive magnetron sputtering
Anotace anglicky
Main goal of this cooperation is to develop powerfull diagnostics methods suitable for controling of physical processes taking place in PVD reactor.
Vědní obory
Kategorie VaV
NV - Neprůmyslový výzkum (aplikovaný výzkum s výjimkou průmyslového)
CEP - hlavní obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
CEP - vedlejší obor
—
CEP - další vedlejší obor
—
OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
Hodnocení dokončeného projektu
Hodnocení poskytovatelem
U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)
Zhodnocení výsledků projektu
Pokračoval výzkum elementárních procesů probíhajících při reaktivním magnetronovém naprašování a studie vlastností připravených tenkých vrstev. Na obou pracovištích je prováděno komplementární studium pulzně buzeného plazmatu v reaktivních plynech.
Termíny řešení
Zahájení řešení
1. 1. 2008
Ukončení řešení
31. 12. 2008
Poslední stav řešení
U - Ukončený projekt
Poslední uvolnění podpory
7. 8. 2008
Dodání dat do CEP
Důvěrnost údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Systémové označení dodávky dat
CEP09-MSM-ME-U/02:2
Datum dodání záznamu
7. 5. 2010
Finance
Celkové uznané náklady
25 tis. Kč
Výše podpory ze státního rozpočtu
25 tis. Kč
Ostatní veřejné zdroje financování
0 tis. Kč
Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.
0 tis. Kč