Deposition and characterization of Ti/C:H films
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F01%3A00105310" target="_blank" >RIV/00216208:11320/01:00105310 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Deposition and characterization of Ti/C:H films
Popis výsledku v původním jazyce
Deposition and characterization of Ti/C:H films
Název v anglickém jazyce
Deposition and characterization of Ti/C:H films
Popis výsledku anglicky
Deposition and characterization of Ti/C:H films
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2001
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
15th Int. Symp. On Plasma Chemistry, Symp Proceedings
ISBN
—
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
2403-2407
Název nakladatele
-
Místo vydání
University of Orleans, Orleans, France
Místo konání akce
University of Orleans, Orleans, France
Datum konání akce
1. 1. 2001
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—