Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Structure and properties of silicon thin films deposited at low substrate temperatures

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F03%3A00002228" target="_blank" >RIV/00216208:11320/03:00002228 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/68378271:_____/03:02030495 RIV/61389005:_____/03:02030495

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Structure and properties of silicon thin films deposited at low substrate temperatures

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Structure and properties of silicon thin films deposited at low substrate temperatures

  • Název v anglickém jazyce

    Structure and properties of silicon thin films deposited at low substrate temperatures

  • Popis výsledku anglicky

    Structure and properties of silicon thin films deposited at low substrate temperatures

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2003

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Japanese Journal of Applied Physics

  • ISSN

    0021-4922

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    42

  • Číslo periodika v rámci svazku

    8B

  • Stát vydavatele periodika

    JP - Japonsko

  • Počet stran výsledku

    1

  • Strana od-do

    "L987"-"L989"

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus