Chemické leštění substrátů CdZnTe
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F06%3A00002266" target="_blank" >RIV/00216208:11320/06:00002266 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Chemical polishing of CdZnTe substrates
Popis výsledku v původním jazyce
Chemical polishing of CdZnTe substrates
Název v anglickém jazyce
Chemical polishing of CdZnTe substrates
Popis výsledku anglicky
Chemical polishing of CdZnTe substrates
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GA102%2F05%2F2095" target="_blank" >GA102/05/2095: Zdroje šumu v polovodičových materiálech a součástkách</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2006
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
SILICON 2006, The Tenth Scientific and Business Conference
ISBN
80-239-7781-4
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
14
Strana od-do
483-496
Název nakladatele
TECON Scientific, s.r.o.
Místo vydání
Rožnov p. Radhoštěm
Místo konání akce
Rožnov p. Radhoštěm
Datum konání akce
1. 1. 2006
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—