Tok iontů na substrát během depozice tenkých vrstev v systému s plazmatickou tryskou

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F07%3A00004142" target="_blank" >RIV/00216208:11320/07:00004142 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Measuring the Ion Current to the Substrate During Deposition of Thin Films by Hollow Cathode Plasma Jet
Popis výsledku v původním jazyce
Measuring the Ion Current to the Substrate During Deposition of Thin Films by Hollow Cathode Plasma Jet
Název v anglickém jazyce
Measuring the Ion Current to the Substrate During Deposition of Thin Films by Hollow Cathode Plasma Jet
Popis výsledku anglicky
Measuring the Ion Current to the Substrate During Deposition of Thin Films by Hollow Cathode Plasma Jet

Projekt
<a href="/cs/project/GA202%2F06%2F0776" target="_blank" >GA202/06/0776: Pokročilý výzkum a vývoj zdrojů nízkoteplotního plazmatu</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění
2007
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku
WDS´07 Proceedings of Contributed Papers: Part II - Physics of Plasmas and Ionized Media
ISBN
978-80-7378-024-1
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
6
Strana od-do
212-217
Název nakladatele
Matfyzpress
Místo vydání
Prague
Místo konání akce
Prague
Datum konání akce
1. 1. 2007
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—

Popis výsledku