Ion Field Emission from Micron-sized Carbon Dust Grains
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F09%3A00206357" target="_blank" >RIV/00216208:11320/09:00206357 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Ion Field Emission from Micron-sized Carbon Dust Grains
Popis výsledku v původním jazyce
Ion field emission from dust grains was studied using several glassy carbon grains of different radii from 1.64 to 2.97 $mu$m as dust samples. Each grain was stored in a quadrupole trap under UHV conditions for a long time (days) and charged by argon ions to a high surface potential. When the ion gun was switched off the charged grain started to discharge spontaneously. We found out that the discharging process is a combination of field ionization and field desorption. A simple model for ion field emission was developed and the model results were compared with the measured data. Influence of the ion penetration depth on the field ion emission is discussed and compared with different measurements of ion diffusion and consecutive desorption of the implanted ions.
Název v anglickém jazyce
Ion Field Emission from Micron-sized Carbon Dust Grains
Popis výsledku anglicky
Ion field emission from dust grains was studied using several glassy carbon grains of different radii from 1.64 to 2.97 $mu$m as dust samples. Each grain was stored in a quadrupole trap under UHV conditions for a long time (days) and charged by argon ions to a high surface potential. When the ion gun was switched off the charged grain started to discharge spontaneously. We found out that the discharging process is a combination of field ionization and field desorption. A simple model for ion field emission was developed and the model results were compared with the measured data. Influence of the ion penetration depth on the field ion emission is discussed and compared with different measurements of ion diffusion and consecutive desorption of the implanted ions.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GA202%2F08%2F0063" target="_blank" >GA202/08/0063: Laboratorní simulace elementárních procesů v prachovém plazmatu</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach
Ostatní
Rok uplatnění
2009
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
WDS´09 Proceedings of Contributed Papers: Part II - Physics of Plasmas and Ionized Media
ISBN
978-80-7378-102-6
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
7
Strana od-do
—
Název nakladatele
Matfyzpress
Místo vydání
Prague
Místo konání akce
Prague
Datum konání akce
1. 1. 2009
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—