Size and Spatial, Homogeneity of SiGe Quantum Dots in Amorphous Silica Matrix (Article No. 084319)
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F09%3A00206976" target="_blank" >RIV/00216208:11320/09:00206976 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Size and Spatial, Homogeneity of SiGe Quantum Dots in Amorphous Silica Matrix (Article No. 084319)
Popis výsledku v původním jazyce
Size and spatial homogeneity of semiconductor quantum dots in amorphous matrix was studied by x-ray small-angle scattering and x-ray diffraction
Název v anglickém jazyce
Size and Spatial, Homogeneity of SiGe Quantum Dots in Amorphous Silica Matrix (Article No. 084319)
Popis výsledku anglicky
Size and spatial homogeneity of semiconductor quantum dots in amorphous matrix was studied by x-ray small-angle scattering and x-ray diffraction
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2009
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Journal of Applied Physics
ISSN
0021-8979
e-ISSN
—
Svazek periodika
106
Číslo periodika v rámci svazku
8
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
6
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
000271358100094
EID výsledku v databázi Scopus
—