Spatial Distribution of Plasma Parameters in DC-energized Hollow Cathode Plasma Jet: System Stability
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F09%3A00207251" target="_blank" >RIV/00216208:11320/09:00207251 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Spatial Distribution of Plasma Parameters in DC-energized Hollow Cathode Plasma Jet: System Stability
Popis výsledku v původním jazyce
DC energized hollow cathode plasma jet system was examined by moveable Langmuir probe. Spatial distribution of electron concentration, plasma and floating potentials and mean electron energy were obtained from measured probe characteristics. The radial dependence of plasma parameters was measured for distances from the system axis 0-120 mm. Temporal dependences of main plasma parameters for discharges in clean argon and argon-oxygen mixture were obtained from probe voltage current characteristics. The system with Ti nozzle permits deposition of pure Ti as well as its compounds with active working gas admixtures such as O2, N2, etc. TiOx thin films were deposited onto glass substrates and examined by AFM and elipsometry.
Název v anglickém jazyce
Spatial Distribution of Plasma Parameters in DC-energized Hollow Cathode Plasma Jet: System Stability
Popis výsledku anglicky
DC energized hollow cathode plasma jet system was examined by moveable Langmuir probe. Spatial distribution of electron concentration, plasma and floating potentials and mean electron energy were obtained from measured probe characteristics. The radial dependence of plasma parameters was measured for distances from the system axis 0-120 mm. Temporal dependences of main plasma parameters for discharges in clean argon and argon-oxygen mixture were obtained from probe voltage current characteristics. The system with Ti nozzle permits deposition of pure Ti as well as its compounds with active working gas admixtures such as O2, N2, etc. TiOx thin films were deposited onto glass substrates and examined by AFM and elipsometry.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach
Ostatní
Rok uplatnění
2009
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
WDS´09 Proceedings of Contributed Papers: Part II - Physics of Plasmas and Ionized Media
ISBN
978-80-7378-102-6
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
—
Název nakladatele
Matfyzpress
Místo vydání
Prague
Místo konání akce
Prague
Datum konání akce
1. 1. 2009
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—