Pt2+,4+ ions in CeO2 rf-sputtered thin films

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F10%3A10070061" target="_blank" >RIV/00216208:11320/10:10070061 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Pt2+,4+ ions in CeO2 rf-sputtered thin films

Popis výsledku v původním jazyce

The interaction of Pt with CeO2 in Pt-doped cerium oxide layers deposited on a Si wafer at normal and grazing incidence, and on multiwall carbon nanotubes (MWCNTs), was investigated by using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). 30-nm-thick Pt-doped CeO2 layers were deposited by rf-magnetron sputtering of a composite CeO2 - Pt target. XPS showed formation of cerium oxide with completely ionized species Pt-2+,Pt-4+ embedded in the film. The Pt2+/Pt4+ ratio depends on the deposition angle and increasesin the case of the film deposition on the MWCNTs. This behavior was explained by the dependence of the polycrystalline film grain morphology on a deposition angle.

Název v anglickém jazyce

Pt2+,4+ ions in CeO2 rf-sputtered thin films

Popis výsledku anglicky

The interaction of Pt with CeO2 in Pt-doped cerium oxide layers deposited on a Si wafer at normal and grazing incidence, and on multiwall carbon nanotubes (MWCNTs), was investigated by using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). 30-nm-thick Pt-doped CeO2 layers were deposited by rf-magnetron sputtering of a composite CeO2 - Pt target. XPS showed formation of cerium oxide with completely ionized species Pt-2+,Pt-4+ embedded in the film. The Pt2+/Pt4+ ratio depends on the deposition angle and increasesin the case of the film deposition on the MWCNTs. This behavior was explained by the dependence of the polycrystalline film grain morphology on a deposition angle.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Rok uplatnění

2010

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface and Interface Analysis

ISSN

0142-2421

e-ISSN

—

Svazek periodika

42

Číslo periodika v rámci svazku

6-7

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000281149700094

EID výsledku v databázi Scopus

—