Computational study of sheath structure in chemically active plasmas

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F11%3A10106256" target="_blank" >RIV/00216208:11320/11:10106256 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/44555601:13440/11:43878473
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1051/epjap/2011110164" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1051/epjap/2011110164</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1051/epjap/2011110164" target="_blank" >10.1051/epjap/2011110164</a>

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Computational study of sheath structure in chemically active plasmas
Popis výsledku v původním jazyce
Results of computer simulations describing an interaction between a low-temperature multicomponent plasma and an immersed metal substrate are presented. For this purpose, computer model of volume processes in a DC glow discharge in Ar-O2 mixture and a particle model of plasma-solid interaction were created. The interaction is studied not only in case when a constant value of voltage bias on the immersed substrate is kept, but also when sinusoidal voltage bias is applied. A pressure dependence of the sheath region in electronegative plasma is shown, too.
Název v anglickém jazyce
Computational study of sheath structure in chemically active plasmas
Popis výsledku anglicky
Results of computer simulations describing an interaction between a low-temperature multicomponent plasma and an immersed metal substrate are presented. For this purpose, computer model of volume processes in a DC glow discharge in Ar-O2 mixture and a particle model of plasma-solid interaction were created. The interaction is studied not only in case when a constant value of voltage bias on the immersed substrate is kept, but also when sinusoidal voltage bias is applied. A pressure dependence of the sheath region in electronegative plasma is shown, too.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—

Projekt
<a href="/cs/project/GAP205%2F10%2F0979" target="_blank" >GAP205/10/0979: Studium interakce chemicky aktivního plazmatu s povrchy pevných látek při středních a vyšších tlacích</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2011
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)