Control of Wettability of Plasma Polymers by Application of Ti Nano-Clusters

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F12%3A10124775" target="_blank" >RIV/00216208:11320/12:10124775 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201100113" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201100113</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201100113" target="_blank" >10.1002/ppap.201100113</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Control of Wettability of Plasma Polymers by Application of Ti Nano-Clusters

Popis výsledku v původním jazyce

Two-step process that allows controlling independently roughness and chemical composition of plasma polymers, i.e., two parameters determining the wettability of such materials, is presented. In the first step a film composed of Ti nano-clusters is deposited on a smooth substrate. Nano-cluster films of different roughness can be obtained depending on deposition time. In the second step the nano-cluster films are overlaid by a thin layer of plasma polymer having the desired chemical structure. This approach allows the tuning of wettability of the deposited films to as much as 50% of the wettability of the films having the same chemical structure but deposited on a smooth substrate.

Název v anglickém jazyce

Control of Wettability of Plasma Polymers by Application of Ti Nano-Clusters

Popis výsledku anglicky

Two-step process that allows controlling independently roughness and chemical composition of plasma polymers, i.e., two parameters determining the wettability of such materials, is presented. In the first step a film composed of Ti nano-clusters is deposited on a smooth substrate. Nano-cluster films of different roughness can be obtained depending on deposition time. In the second step the nano-cluster films are overlaid by a thin layer of plasma polymer having the desired chemical structure. This approach allows the tuning of wettability of the deposited films to as much as 50% of the wettability of the films having the same chemical structure but deposited on a smooth substrate.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Rok uplatnění

2012

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

PLASMA PROCESSES AND POLYMERS

ISSN

1612-8850

e-ISSN

—

Svazek periodika

9

Číslo periodika v rámci svazku

2

Stát vydavatele periodika

DE - Spolková republika Německo

Počet stran výsledku

8

Strana od-do

180-187

Kód UT WoS článku

000300054000009

EID výsledku v databázi Scopus

—