Computational study of sheath structure for plasma-assisted technologies in the presence of electronegative plasma

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F12%3A10130630" target="_blank" >RIV/00216208:11320/12:10130630 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2011.04.005" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2011.04.005</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2011.04.005" target="_blank" >10.1016/j.vacuum.2011.04.005</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Computational study of sheath structure for plasma-assisted technologies in the presence of electronegative plasma

Popis výsledku v původním jazyce

A detailed description of plasma solid interaction is desirable for many technological applications such as plasma surface treatment and also for the development of plasma diagnostic techniques. To solve this rather complex problem, especially in the case of highly collisional or chemically active plasmas, methods of computational physics have to be used. In this paper, we present results of two-dimensional simulations based on the combination of molecular dynamics with particle-in-cell force calculation and the Monte Carlo method. An electropositive argon plasma with parameters taken from a DC glow discharge and an idealized Ar/O-2 plasma were studied for uneven substrates in order to determine the behaviour of plasmas with different electronegativities.

Název v anglickém jazyce

Computational study of sheath structure for plasma-assisted technologies in the presence of electronegative plasma

Popis výsledku anglicky

A detailed description of plasma solid interaction is desirable for many technological applications such as plasma surface treatment and also for the development of plasma diagnostic techniques. To solve this rather complex problem, especially in the case of highly collisional or chemically active plasmas, methods of computational physics have to be used. In this paper, we present results of two-dimensional simulations based on the combination of molecular dynamics with particle-in-cell force calculation and the Monte Carlo method. An electropositive argon plasma with parameters taken from a DC glow discharge and an idealized Ar/O-2 plasma were studied for uneven substrates in order to determine the behaviour of plasmas with different electronegativities.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GAP205%2F10%2F0979" target="_blank" >GAP205/10/0979: Studium interakce chemicky aktivního plazmatu s povrchy pevných látek při středních a vyšších tlacích</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Rok uplatnění

2012

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Vacuum

ISSN

0042-207X

e-ISSN

—

Svazek periodika

86

Číslo periodika v rámci svazku

9

Stát vydavatele periodika

GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

Počet stran výsledku

3

Strana od-do

1220-1222

Kód UT WoS článku

000302839400003

EID výsledku v databázi Scopus

—