Nanostructured plasma polymers

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F13%3A10285427" target="_blank" >RIV/00216208:11320/13:10285427 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0040609013014326#" target="_blank" >http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0040609013014326#</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2013.09.003" target="_blank" >10.1016/j.tsf.2013.09.003</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Nanostructured plasma polymers

Popis výsledku v původním jazyce

Research into nanostructured thin films of plasma polymers is driven by applications of these materials in a wide variety of fields. Here, we review work on the preparation of such coatings using low-pressure discharges, with a focus on the different strategies employed. We start with nanostructured plasma polymers prepared by plasma polymerization under special conditions such as at a large distance from the plasma zone and at a high working gas pressure. Then, methods based upon plasma etching and colloidal lithography combined with plasma treatment are described. Finally, dusty plasmas and gas aggregation cluster sources with planar magnetrons are considered for generation of nanoclusters, nanoparticles, and for deposition of nanostructured plasma polymer films.

Název v anglickém jazyce

Nanostructured plasma polymers

Popis výsledku anglicky

Research into nanostructured thin films of plasma polymers is driven by applications of these materials in a wide variety of fields. Here, we review work on the preparation of such coatings using low-pressure discharges, with a focus on the different strategies employed. We start with nanostructured plasma polymers prepared by plasma polymerization under special conditions such as at a large distance from the plasma zone and at a high working gas pressure. Then, methods based upon plasma etching and colloidal lithography combined with plasma treatment are described. Finally, dusty plasmas and gas aggregation cluster sources with planar magnetrons are considered for generation of nanoclusters, nanoparticles, and for deposition of nanostructured plasma polymer films.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GA13-09853S" target="_blank" >GA13-09853S: Aplikace nízkoteplotního plazmatu v klastrovém zdroji s agregací v plynu pro nanášení nanočástic, nanostrukturovaných a nanokompozitních vrstev</a><br>

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2013

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Thin Solid Films

ISSN

0040-6090

e-ISSN

—

Svazek periodika

548

Číslo periodika v rámci svazku

December

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

17

Strana od-do

1-17

Kód UT WoS článku

000327530300001

EID výsledku v databázi Scopus

—