Comparison of magnetron sputtering and gas aggregation nanoparticle source used for fabrication of silver nanoparticle films

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F15%3A10313691" target="_blank" >RIV/00216208:11320/15:10313691 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2015.05.003" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2015.05.003</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2015.05.003" target="_blank" >10.1016/j.surfcoat.2015.05.003</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Comparison of magnetron sputtering and gas aggregation nanoparticle source used for fabrication of silver nanoparticle films

Popis výsledku v původním jazyce

Magnetron sputtering and gas aggregation sources are commonly used techniques for the preparation of metallic nanopartides. In this study we compare both of these techniques used for the production of thin Ag nanoparticle films from the point of view oftheir morphology, topography and optical properties in dependence on the deposition time and substrate material. It is shown that in the case of sputter deposition, the morphology and optical properties of prepared films are dependent on the substrate material and deposition time and the resulting films are smooth with root-mean-square roughness 2 nm. By contrast, films produced using gas aggregation source are considerably rougher (root-mean-square roughness 12 nm) and consist of individual Ag nanoparticles. The deposition time affects in this case only the amount of nanoparticles on the surface and intensity of an anomalous absorption peak.

Název v anglickém jazyce

Comparison of magnetron sputtering and gas aggregation nanoparticle source used for fabrication of silver nanoparticle films

Popis výsledku anglicky

Magnetron sputtering and gas aggregation sources are commonly used techniques for the preparation of metallic nanopartides. In this study we compare both of these techniques used for the production of thin Ag nanoparticle films from the point of view oftheir morphology, topography and optical properties in dependence on the deposition time and substrate material. It is shown that in the case of sputter deposition, the morphology and optical properties of prepared films are dependent on the substrate material and deposition time and the resulting films are smooth with root-mean-square roughness 2 nm. By contrast, films produced using gas aggregation source are considerably rougher (root-mean-square roughness 12 nm) and consist of individual Ag nanoparticles. The deposition time affects in this case only the amount of nanoparticles on the surface and intensity of an anomalous absorption peak.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GA13-09853S" target="_blank" >GA13-09853S: Aplikace nízkoteplotního plazmatu v klastrovém zdroji s agregací v plynu pro nanášení nanočástic, nanostrukturovaných a nanokompozitních vrstev</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2015

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface and Coatings Technology

ISSN

0257-8972

e-ISSN

—

Svazek periodika

275

Číslo periodika v rámci svazku

Neuvedeno

Stát vydavatele periodika

CH - Švýcarská konfederace

Počet stran výsledku

7

Strana od-do

296-302

Kód UT WoS článku

000357753900042

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-84930866652