Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Graphene Growth on Pt(111) by Ethylene Chemical Vapor Deposition at Surface Temperatures near 1000 K

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F15%3A10319414" target="_blank" >RIV/00216208:11320/15:10319414 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1021/jp508177k" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1021/jp508177k</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1021/jp508177k" target="_blank" >10.1021/jp508177k</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Graphene Growth on Pt(111) by Ethylene Chemical Vapor Deposition at Surface Temperatures near 1000 K

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The nucleation and growth of graphene islands on a Pt(111) surface were examined at temperatures near 1000 K. Graphene was grown by chemical vapor deposition of ethylene, and a low-energy electron microscope (LEEM) was used to image the growing grapheneislands with resolution of 10 nm and to perform spatially localized electron diffraction. It is shown that graphene grows bidirectionally over the Step edges of Pt, and its formation can induce substantial changes in the platinum surface morphology. Average sire and density of graphene islands strongly depend on surface temperature during deposition. Postdosing Auger electron spectroscopy was employed as a complementary macroscopic technique to measure the total carbon deposited as a result of ethylenedissociative sticking and decomposition. The initial dissociative sticking coefficient S-0(T-g = 300 K, T-s ) for ethylene was found to decrease with increasing Surface temperature until a temperature of T-s = 850 K was reached whereupon

  • Název v anglickém jazyce

    Graphene Growth on Pt(111) by Ethylene Chemical Vapor Deposition at Surface Temperatures near 1000 K

  • Popis výsledku anglicky

    The nucleation and growth of graphene islands on a Pt(111) surface were examined at temperatures near 1000 K. Graphene was grown by chemical vapor deposition of ethylene, and a low-energy electron microscope (LEEM) was used to image the growing grapheneislands with resolution of 10 nm and to perform spatially localized electron diffraction. It is shown that graphene grows bidirectionally over the Step edges of Pt, and its formation can induce substantial changes in the platinum surface morphology. Average sire and density of graphene islands strongly depend on surface temperature during deposition. Postdosing Auger electron spectroscopy was employed as a complementary macroscopic technique to measure the total carbon deposited as a result of ethylenedissociative sticking and decomposition. The initial dissociative sticking coefficient S-0(T-g = 300 K, T-s ) for ethylene was found to decrease with increasing Surface temperature until a temperature of T-s = 850 K was reached whereupon

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2015

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Journal of Physical Chemistry C

  • ISSN

    1932-7447

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    119

  • Číslo periodika v rámci svazku

    9

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    10

  • Strana od-do

    4759-4768

  • Kód UT WoS článku

    000350840700035

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-84924198254