Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F18%3A10386913" target="_blank" >RIV/00216208:11320/18:10386913 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/68378271:_____/18:00497873 RIV/61389021:_____/18:00503529

  • Výsledek na webu

    <a href="https://doi.org/10.1364/JOSAB.35.002799" target="_blank" >https://doi.org/10.1364/JOSAB.35.002799</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1364/JOSAB.35.002799" target="_blank" >10.1364/JOSAB.35.002799</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The process of damage accumulation in thin ruthenium films exposed to multiple femtosecond extreme ultraviolet (XUV) free-electron laser (FEL) pulses below the critical angle of reflectance at the FEL facility in Hamburg (FLASH) was experimentally analyzed. The multi-shot damage threshold is found to be lower than the single-shot damage threshold. Detailed analysis of the damage morphology and its dependence on irradiation conditions justifies the assumption that cavitation induced by the FEL pulse is the prime mechanism responsible for multi-shot damage in optical coatings. (C) 2018 Optical Society of America.

  • Název v anglickém jazyce

    Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold

  • Popis výsledku anglicky

    The process of damage accumulation in thin ruthenium films exposed to multiple femtosecond extreme ultraviolet (XUV) free-electron laser (FEL) pulses below the critical angle of reflectance at the FEL facility in Hamburg (FLASH) was experimentally analyzed. The multi-shot damage threshold is found to be lower than the single-shot damage threshold. Detailed analysis of the damage morphology and its dependence on irradiation conditions justifies the assumption that cavitation induced by the FEL pulse is the prime mechanism responsible for multi-shot damage in optical coatings. (C) 2018 Optical Society of America.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2018

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Journal of the Optical Society of America B: Optical Physics

  • ISSN

    0740-3224

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    35

  • Číslo periodika v rámci svazku

    11

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    7

  • Strana od-do

    2799-2805

  • Kód UT WoS článku

    000448941700021

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85056121487