XPS study of Rh/In2O3 system
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F21%3A10439707" target="_blank" >RIV/00216208:11320/21:10439707 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://verso.is.cuni.cz/pub/verso.fpl?fname=obd_publikace_handle&handle=LUrY.Ck0vL" target="_blank" >https://verso.is.cuni.cz/pub/verso.fpl?fname=obd_publikace_handle&handle=LUrY.Ck0vL</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfin.2020.100794" target="_blank" >10.1016/j.surfin.2020.100794</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
XPS study of Rh/In2O3 system
Popis výsledku v původním jazyce
The effect of surface modification of In2O3 films by rhodium atoms deposited by electron beam sputtering on the XP spectra is considered. The surface coverage with rhodium ranged from 0 to 0.1 ML. It was shown that the main changes in the XP spectra occur in the Rh3d region and are caused by the dimensional effect of rhodium particles. With an increase in the surface coverage with rhodium, Rh particles grow from an atomically dispersed state to relatively large clusters. As the particle size increases, its electronic structure tends to approach the state corresponding to the bulk Rh. Such a process is accompanied by a decrease in BE Rh3d(5/2) by 0.3-0.6 eV, which behaviour depends on the surface structure of the used In2O3 films.
Název v anglickém jazyce
XPS study of Rh/In2O3 system
Popis výsledku anglicky
The effect of surface modification of In2O3 films by rhodium atoms deposited by electron beam sputtering on the XP spectra is considered. The surface coverage with rhodium ranged from 0 to 0.1 ML. It was shown that the main changes in the XP spectra occur in the Rh3d region and are caused by the dimensional effect of rhodium particles. With an increase in the surface coverage with rhodium, Rh particles grow from an atomically dispersed state to relatively large clusters. As the particle size increases, its electronic structure tends to approach the state corresponding to the bulk Rh. Such a process is accompanied by a decrease in BE Rh3d(5/2) by 0.3-0.6 eV, which behaviour depends on the surface structure of the used In2O3 films.
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/LM2018116" target="_blank" >LM2018116: Laboratoř fyziky povrchů - Optická dráha pro výzkum materiálů</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2021
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Surfaces and Interfaces
ISSN
2468-0230
e-ISSN
—
Svazek periodika
22
Číslo periodika v rámci svazku
Feb
Stát vydavatele periodika
NL - Nizozemsko
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
100794
Kód UT WoS článku
000657355200005
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-85097167301