Sputtering onto liquids: a critical review
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F22%3A10437525" target="_blank" >RIV/00216208:11320/22:10437525 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://verso.is.cuni.cz/pub/verso.fpl?fname=obd_publikace_handle&handle=sz_e5Sf.Ki" target="_blank" >https://verso.is.cuni.cz/pub/verso.fpl?fname=obd_publikace_handle&handle=sz_e5Sf.Ki</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.3762/bjnano.13.2" target="_blank" >10.3762/bjnano.13.2</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Sputtering onto liquids: a critical review
Popis výsledku v původním jazyce
Sputter deposition of atoms onto liquid substrates aims at producing colloidal dispersions of small monodisperse ultrapure nanoparticles (NPs). Since sputtering onto liquids combines the advantages of the physical vapor deposition technique and classical colloidal synthesis, the review contains chapters explaining the basics of (magnetron) sputter deposition and the formation of NPs in solution. This review article covers more than 132 papers published on this topic from 1996 to September 2021 and aims at providing a critical analysis of most of the reported data; we will address the influence of the sputtering parameters (sputter power, current, voltage, sputter time, working gas pressure, and the type of sputtering plasma) and host liquid properties (composition, temperature, viscosity, and surface tension) on the NP formation as well as a detailed overview of the properties and applications of the produced NPs.
Název v anglickém jazyce
Sputtering onto liquids: a critical review
Popis výsledku anglicky
Sputter deposition of atoms onto liquid substrates aims at producing colloidal dispersions of small monodisperse ultrapure nanoparticles (NPs). Since sputtering onto liquids combines the advantages of the physical vapor deposition technique and classical colloidal synthesis, the review contains chapters explaining the basics of (magnetron) sputter deposition and the formation of NPs in solution. This review article covers more than 132 papers published on this topic from 1996 to September 2021 and aims at providing a critical analysis of most of the reported data; we will address the influence of the sputtering parameters (sputter power, current, voltage, sputter time, working gas pressure, and the type of sputtering plasma) and host liquid properties (composition, temperature, viscosity, and surface tension) on the NP formation as well as a detailed overview of the properties and applications of the produced NPs.
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/EF15_003%2F0000485" target="_blank" >EF15_003/0000485: Centrum nanomateriálů pro pokročilé aplikace</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2022
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Beilstein Journal of Nanotechnology [online]
ISSN
2190-4286
e-ISSN
—
Svazek periodika
13
Číslo periodika v rámci svazku
Leden
Stát vydavatele periodika
DE - Spolková republika Německo
Počet stran výsledku
44
Strana od-do
10-53
Kód UT WoS článku
000740359600001
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-85123456826