Plasmachemical Deposition of Thin Films

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F00%3A00002470" target="_blank" >RIV/00216224:14310/00:00002470 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Plasmachemical Deposition of Thin Films

Popis výsledku v původním jazyce

PECVD deposition of thin films in RF and MW plasma. Hard diamond-like carbon thin films. Transparent SiOx thin films. Polycrystalline diamond.

Název v anglickém jazyce

Plasmachemical Deposition of Thin Films

Popis výsledku anglicky

PECVD deposition of thin films in RF and MW plasma. Hard diamond-like carbon thin films. Transparent SiOx thin films. Polycrystalline diamond.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2000

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

4th Czech-Russian Seminar on Electrophysical and Thermophysical Processes in Low-Temperature Plasma

ISBN

80-214-1600-9

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

10

Strana od-do

—

Název nakladatele

VUT Brno

Místo vydání

Brno

Místo konání akce

—

Datum konání akce

—

Typ akce podle státní příslušnosti

—

Kód UT WoS článku

—