The deposition process based on silicon-organic compounds (HMDSO, TEOS) in two different types of an atmospheric barrier discharge

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F01%3A00004618" target="_blank" >RIV/00216224:14310/01:00004618 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

The deposition process based on silicon-organic compounds (HMDSO, TEOS) in two different types of an atmospheric barrier discharge

Popis výsledku v původním jazyce

The deposition process based on silicon-organic compounds (HMDSO, TEOS) in two different types of an atmospheric barrier discharge

Název v anglickém jazyce

The deposition process based on silicon-organic compounds (HMDSO, TEOS) in two different types of an atmospheric barrier discharge

Popis výsledku anglicky

The deposition process based on silicon-organic compounds (HMDSO, TEOS) in two different types of an atmospheric barrier discharge

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GA202%2F00%2FP037" target="_blank" >GA202/00/P037: Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2001

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry

ISBN

—

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

1835

Název nakladatele

GREMI, CNRS/University of Orleans

Místo vydání

Orleans (France)

Místo konání akce

Orleans (France)

Datum konání akce

1. 1. 2001

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—