Deposition of Hard carbon films and Its Diagnostics

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F03%3A00008477" target="_blank" >RIV/00216224:14310/03:00008477 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Deposition of Hard carbon films and Its Diagnostics

Popis výsledku v původním jazyce

We studied the growth of microcrystalline diamond films on pre-treated Si and WC-Co substrates by microwave plasma chemical vapour deposition (MPCVD). The pre-treatment was varied and its effect on diamond film was studied.

Název v anglickém jazyce

Deposition of Hard carbon films and Its Diagnostics

Popis výsledku anglicky

We studied the growth of microcrystalline diamond films on pre-treated Si and WC-Co substrates by microwave plasma chemical vapour deposition (MPCVD). The pre-treatment was varied and its effect on diamond film was studied.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2003

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Proceedings of the XIVth SAPP

ISBN

80-8040-195-0

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

2

Strana od-do

154

Název nakladatele

MFF UK

Místo vydání

Bratislava

Místo konání akce

Liptovský Mikuláš

Datum konání akce

1. 1. 2003

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—