Rtg rozptyl s vysokýzm rozlišením na tenkých vrstvách a laterálních nanostrukturách
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F04%3A00010939" target="_blank" >RIV/00216224:14310/04:00010939 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
High-Resolution X-Ray Scattering From Thin Films to Lateral Nanostructures
Popis výsledku v původním jazyce
High-Resolution X-Ray Scattering From Thin Films to Lateral Nanostructures
Název v anglickém jazyce
High-Resolution X-Ray Scattering From Thin Films to Lateral Nanostructures
Popis výsledku anglicky
High-Resolution X-Ray Scattering From Thin Films to Lateral Nanostructures
Klasifikace
Druh
B - Odborná kniha
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GA202%2F00%2F0354" target="_blank" >GA202/00/0354: Procesy samouspořádání rozhraní při epitaxním růstu polovodičových supermřížek</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2004
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
ISBN
0387400923
Počet stran knihy
408
Název nakladatele
Springer
Místo vydání
New York, Berlin, Heidelberg
Kód UT WoS knihy
—