PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F05%3A00014527" target="_blank" >RIV/00216224:14310/05:00014527 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích

Popis výsledku v původním jazyce

Prezentace shrnuje plazmové technologie uplatňované pro depozici tenkých vrstev a modifikaci povrchů.

Název v anglickém jazyce

PECVD and treatment of surfaces in low pressure discharges

Popis výsledku anglicky

The presentations covers plasma technologies used for deposition of thin films and treatment of surfaces.

Druh

A - Audiovizuální tvorba

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/1K05025" target="_blank" >1K05025: Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2005

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

ISBN

—

Místo vydání

—

Název nakladatele resp. objednatele

—

Verze

—

Identifikační číslo nosiče

—