Strukturní vlastnosti křemíku po nízkoenergetické implantaci

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F06%3A00018332" target="_blank" >RIV/00216224:14310/06:00018332 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/00216208:11320/06:00002979

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Structural properties of ultra-low-energy ion-implanted silicon studied by combined X-ray scattering methods

Popis výsledku v původním jazyce

Structural properties of ultra-low-energy ion-implanted silicon studied by combined X-ray scattering methods

Název v anglickém jazyce

Structural properties of ultra-low-energy ion-implanted silicon studied by combined X-ray scattering methods

Popis výsledku anglicky

Structural properties of ultra-low-energy ion-implanted silicon studied by combined X-ray scattering methods

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2006

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Applied Crystallography

ISSN

0021-8898

e-ISSN

—

Svazek periodika

39

Číslo periodika v rámci svazku

2

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

11

Strana od-do

571-581

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—