Modelovani optickych konstant organosilikonovych vrstev pomoci paramtrizave hustoty stavu

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F06%3A00018470" target="_blank" >RIV/00216224:14310/06:00018470 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Modeling of optical constants of organosilicon thin films by parameterization of denstity of states

Popis výsledku v původním jazyce

Modeling of optical constants of organosilicon thin films by parameterization of denstity of states

Název v anglickém jazyce

Modeling of optical constants of organosilicon thin films by parameterization of denstity of states

Popis výsledku anglicky

Modeling of optical constants of organosilicon thin films by parameterization of denstity of states

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/1K05025" target="_blank" >1K05025: Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2006

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

4th Workshop Ellipsometry

ISBN

3-00-018751-0

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

1

Strana od-do

110-111

Název nakladatele

Uwe Beck

Místo vydání

Berlin

Místo konání akce

Berlin

Datum konání akce

22. 2. 2006

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—