Selective wet etching of amorphous/crystallized Ag/As/S and Ag/As/S/Se chalcogenide thin films

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F07%3A00028406" target="_blank" >RIV/00216224:14310/07:00028406 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/00177016:_____/07:#0000336

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Selective wet etching of amorphous/crystallized Ag/As/S and Ag/As/S/Se chalcogenide thin films

Popis výsledku v původním jazyce

The paper is focused on the possibilities of selective wet etching of optically and thermally crystallized /amorphous Ag-doped chalcogenide thin films, namely Ag-x(As0.33S0.67)(100-x) and Ag-x(As0.33S0.335Se0.335)(100-x). The selective etching of optically(thermally) crystallized Ag-x(As0.33S0.67)(100-x) and thermally crystallized Ag-x(As0.33S0.335Se0.335)(100-x) thin films in water solution of NaCN is presented. The good surface quality is an important and crucial parameter for optical elements fabrication (e.g. grids, waveguides, etc.) especially in nanometer dimensions. The selective etching of undoped and Ag optically doped region was also carried out to observe surface roughness of doped region before and after selective etching. Characterizationof the structure and surface of studied films by Raman spectroscopy, X-ray diffraction, AFM and SEM methods has been done and potential application suggested.

Název v anglickém jazyce

Selective wet etching of amorphous/crystallized Ag/As/S and Ag/As/S/Se chalcogenide thin films

Popis výsledku anglicky

The paper is focused on the possibilities of selective wet etching of optically and thermally crystallized /amorphous Ag-doped chalcogenide thin films, namely Ag-x(As0.33S0.67)(100-x) and Ag-x(As0.33S0.335Se0.335)(100-x). The selective etching of optically(thermally) crystallized Ag-x(As0.33S0.67)(100-x) and thermally crystallized Ag-x(As0.33S0.335Se0.335)(100-x) thin films in water solution of NaCN is presented. The good surface quality is an important and crucial parameter for optical elements fabrication (e.g. grids, waveguides, etc.) especially in nanometer dimensions. The selective etching of undoped and Ag optically doped region was also carried out to observe surface roughness of doped region before and after selective etching. Characterizationof the structure and surface of studied films by Raman spectroscopy, X-ray diffraction, AFM and SEM methods has been done and potential application suggested.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

CA - Anorganická chemie

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GA203%2F06%2F1368" target="_blank" >GA203/06/1368: Příprava a studium amorfních chalkogenidových vrstev a jejich potenciální aplikace pro optický záznam a paměti</a><br>

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Physics and Chemistry of Solids

ISSN

0022-3697

e-ISSN

—

Svazek periodika

68

Číslo periodika v rámci svazku

5-6

Stát vydavatele periodika

CZ - Česká republika

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—