Electromagnetic field distribution modelling in microlenses fabrication process

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F07%3A00030102" target="_blank" >RIV/00216224:14310/07:00030102 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/00177016:_____/07:#0000391

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Electromagnetic field distribution modelling in microlenses fabrication process

Popis výsledku v původním jazyce

In this article, theoretical modelling of electromagnetic field distribution in the exposed thin film during lithographic process of microlenses array formation is presented. While studying topography of microlenses by means of atomic force microscopy wehave found that various diffraction effects are observed due to the small dimensions of microlens patterns comparing to the wavelength. In this article we use finite-difference in time domain (FDTD) method to model electromagnetic field distribution incomplex pattern-film geometry. Within FDTD, we solve Maxwell equations numerically, which enables us to model any type of geometry or material properties. Therefore, the effects of different perturbations, like pattern boundary imperfections or thin filmroughness can be studied within this method, showing their effect on the electromagnetic field distribution within illuminated chalcogenide thin film.

Název v anglickém jazyce

Electromagnetic field distribution modelling in microlenses fabrication process

Popis výsledku anglicky

In this article, theoretical modelling of electromagnetic field distribution in the exposed thin film during lithographic process of microlenses array formation is presented. While studying topography of microlenses by means of atomic force microscopy wehave found that various diffraction effects are observed due to the small dimensions of microlens patterns comparing to the wavelength. In this article we use finite-difference in time domain (FDTD) method to model electromagnetic field distribution incomplex pattern-film geometry. Within FDTD, we solve Maxwell equations numerically, which enables us to model any type of geometry or material properties. Therefore, the effects of different perturbations, like pattern boundary imperfections or thin filmroughness can be studied within this method, showing their effect on the electromagnetic field distribution within illuminated chalcogenide thin film.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/FT-TA3%2F142" target="_blank" >FT-TA3/142: Analýza optických vlastností solárních článků.</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Physics and Chemistry of Solids

ISSN

0022-3697

e-ISSN

—

Svazek periodika

68

Číslo periodika v rámci svazku

5-6

Stát vydavatele periodika

CZ - Česká republika

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—