Kontrola reaktivního naprašování pomocí analýzy harmonických frekvencí napětí vf. výboje

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F08%3A00024832" target="_blank" >RIV/00216224:14310/08:00024832 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control RF sputtering deposition process
Popis výsledku v původním jazyce
The fundamental and the higher harmonics of the cathode voltage and of the uncompensated probe potential were used as a tool to control the reactive magnetron sputtering. It was shown that this methode is very sensitive and is suitable for the control ofthe deposition process.
Název v anglickém jazyce
Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control RF sputtering deposition process
Popis výsledku anglicky
The fundamental and the higher harmonics of the cathode voltage and of the uncompensated probe potential were used as a tool to control the reactive magnetron sputtering. It was shown that this methode is very sensitive and is suitable for the control ofthe deposition process.

Projekt
<a href="/cs/project/GP202%2F08%2FP038" target="_blank" >GP202/08/P038: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2008
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku
19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts
ISBN
2-914771-04-5
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
—
Název nakladatele
European Physical Society
Místo vydání
Granada
Místo konání akce
Španělsko, Granada
Datum konání akce
1. 1. 2008
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—

Podobné výsledky(10)