Vliv teploty neutralniho plynu na hysterezni chovani reaktivniho magnetronoveho naprasovani

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F08%3A00024850" target="_blank" >RIV/00216224:14310/08:00024850 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Role of Neutral Gas Temperature on Hysteresis Behaviour of Reactive Sputtering Deposition Process
Popis výsledku v původním jazyce
Theoretical study of role of neutral gas temperature on hysteresis behaviour of reactive sputtering deposition process
Název v anglickém jazyce
Role of Neutral Gas Temperature on Hysteresis Behaviour of Reactive Sputtering Deposition Process
Popis výsledku anglicky
Theoretical study of role of neutral gas temperature on hysteresis behaviour of reactive sputtering deposition process

Projekt
<a href="/cs/project/GP202%2F08%2FP038" target="_blank" >GP202/08/P038: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2008
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku
Programme and Abstract Book of 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology, Prague, Czech Republic, 16.-19.June 2008
ISBN
978-80-01-04030-0
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
—
Název nakladatele
České vysoké učení technické
Místo vydání
Praha
Místo konání akce
Praha
Datum konání akce
16. 6. 2008
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—

Popis výsledku