Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F09%3A00049600" target="_blank" >RIV/00216224:14310/09:00049600 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process

Popis výsledku v původním jazyce

Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process - proceeding

Název v anglickém jazyce

Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process

Popis výsledku anglicky

Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process - proceeding

Druh

O - Ostatní výsledky

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GP202%2F08%2FP038" target="_blank" >GP202/08/P038: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2009

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů