Vše
Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Plasma treatment of silicon surface by DCSBD

Identifikátory výsledku

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Plasma treatment of silicon surface by DCSBD

  • Popis výsledku v původním jazyce

    This paper focuses on the plasma treatment of crystalline Si (100) surface. The plasma was generated by Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge (DCSBD) at atmospheric pressure using ambient atmosphere. Surface free energy of silicon was investigated by contact angle measurement and surface morphology was studied by Atomic force microscope. Plasma treatment increases the surface wettability and AFM measurements showed that the plasma influences also the surface roughness.

  • Název v anglickém jazyce

    Plasma treatment of silicon surface by DCSBD

  • Popis výsledku anglicky

    This paper focuses on the plasma treatment of crystalline Si (100) surface. The plasma was generated by Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge (DCSBD) at atmospheric pressure using ambient atmosphere. Surface free energy of silicon was investigated by contact angle measurement and surface morphology was studied by Atomic force microscope. Plasma treatment increases the surface wettability and AFM measurements showed that the plasma influences also the surface roughness.

Klasifikace

  • Druh

    Jx - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2011

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Acta Technica CSAV

  • ISSN

    0001-7043

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    Volume 56

  • Číslo periodika v rámci svazku

    2011

  • Stát vydavatele periodika

    CZ - Česká republika

  • Počet stran výsledku

    6

  • Strana od-do

    356-361

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus

Základní informace

Druh výsledku

Jx - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

Jx

CEP

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

Rok uplatnění

2011