Study of argon flowing afterglow with nitrogen injection
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F13%3A00070494" target="_blank" >RIV/00216224:14310/13:00070494 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1063/1.4826650" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1063/1.4826650</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1063/1.4826650" target="_blank" >10.1063/1.4826650</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Study of argon flowing afterglow with nitrogen injection
Popis výsledku v původním jazyce
In this work the reaction kinetics in argon flowing afterglow with nitrogen addition was studied by optical emission spectroscopy. Kinetic model showed that C~$^{3}Pi_{u}$ state of molecular nitrogen, which is the upper state of SPS emission, is produced by excitation transfer from argon metastables to nitrogen molecules. However, the argon metastables are also produced at Ar$_2^+$ ion recombination with electrons and this limits the decay of argon metastable concentration and it results in very slow decay of second positive system intensity.
Název v anglickém jazyce
Study of argon flowing afterglow with nitrogen injection
Popis výsledku anglicky
In this work the reaction kinetics in argon flowing afterglow with nitrogen addition was studied by optical emission spectroscopy. Kinetic model showed that C~$^{3}Pi_{u}$ state of molecular nitrogen, which is the upper state of SPS emission, is produced by excitation transfer from argon metastables to nitrogen molecules. However, the argon metastables are also produced at Ar$_2^+$ ion recombination with electrons and this limits the decay of argon metastable concentration and it results in very slow decay of second positive system intensity.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/ED2.1.00%2F03.0086" target="_blank" >ED2.1.00/03.0086: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2013
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Journal of Chemical Physics
ISSN
0021-9606
e-ISSN
—
Svazek periodika
139
Číslo periodika v rámci svazku
16
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
6
Strana od-do
164311
Kód UT WoS článku
000326637500039
EID výsledku v databázi Scopus
—