Plasma enhanced chemical vapor deposition of organosilicon thin films on electrospun polymer nanofibers

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F13%3A00088806" target="_blank" >RIV/00216224:14310/13:00088806 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Plasma enhanced chemical vapor deposition of organosilicon thin films on electrospun polymer nanofibers

Popis výsledku v původním jazyce

Organosilicon plasma polymers were prepared from hexamethyldisiloxane / argon mixtures in low pressure rf discharges with capacitive coupling and by cold rf plasma multi-jet working at atmospheric pressure. The frequency of applied voltage was in both cases 13.56 MHz. The films were prepared on PVA and PA6 electrospun fabrics and on silicon and glass substrates for reference purposes. The coatings were characterized by scanning electron microscopy (SEM), Fourier transform infrared spectroscopy, atomic force microscopy and contact angle measurement. SEM revealed that the microstructure of coatings differed significantly when changing the plasma conditions.

Název v anglickém jazyce

Plasma enhanced chemical vapor deposition of organosilicon thin films on electrospun polymer nanofibers

Popis výsledku anglicky

Organosilicon plasma polymers were prepared from hexamethyldisiloxane / argon mixtures in low pressure rf discharges with capacitive coupling and by cold rf plasma multi-jet working at atmospheric pressure. The frequency of applied voltage was in both cases 13.56 MHz. The films were prepared on PVA and PA6 electrospun fabrics and on silicon and glass substrates for reference purposes. The coatings were characterized by scanning electron microscopy (SEM), Fourier transform infrared spectroscopy, atomic force microscopy and contact angle measurement. SEM revealed that the microstructure of coatings differed significantly when changing the plasma conditions.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2013

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Book of Contributed Papers: 19th Symposium on Application of Plasma Processes

ISBN

9788081470042

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

121-124

Název nakladatele

Department of Experimental Physics, Faculty of Mathematics, Physics and Informatics, Comenius University in Bratislava (Slovakia)

Místo vydání

Bratislava

Místo konání akce

26.1.2013

Datum konání akce

1. 1. 2013

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—