Low temperature temporal and spatial atomic layer deposition of TiO2 films

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F15%3A00083408" target="_blank" >RIV/00216224:14310/15:00083408 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://scitation.aip.org/content/avs/journal/jvsta/33/4/10.1116/1.4922588" target="_blank" >http://scitation.aip.org/content/avs/journal/jvsta/33/4/10.1116/1.4922588</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1116/1.4922588" target="_blank" >10.1116/1.4922588</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Low temperature temporal and spatial atomic layer deposition of TiO2 films

Popis výsledku v původním jazyce

Titanium dioxide films were grown by atomic layer deposition (ALD) using titanium tetraisopropoxide as a titanium precursor and water, ozone, or oxygen plasma as coreactants.

Název v anglickém jazyce

Low temperature temporal and spatial atomic layer deposition of TiO2 films

Popis výsledku anglicky

Titanium dioxide films were grown by atomic layer deposition (ALD) using titanium tetraisopropoxide as a titanium precursor and water, ozone, or oxygen plasma as coreactants.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2015

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Vacuum Science & Technology A

ISSN

0734-2101

e-ISSN

—

Svazek periodika

33

Číslo periodika v rámci svazku

4

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

9

Strana od-do

"nestránkováno"

Kód UT WoS článku

000357826400024

EID výsledku v databázi Scopus

—