Pulsed-DC Magnetron Sputtering Process for Low Temperature Deposition of Hard Yet Moderately Ductile MoBC Coatings

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F16%3A00088512" target="_blank" >RIV/00216224:14310/16:00088512 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Pulsed-DC Magnetron Sputtering Process for Low Temperature Deposition of Hard Yet Moderately Ductile MoBC Coatings

Popis výsledku v původním jazyce

Current state-of- materials nowadays used as protective coatings such as TiN, TiAlN, c-BN etc. generally exhibit high hardness and high stiffness. These positive features are often accompanied by undesirable brittle deformation behaviour. To overcome this limitation a new generation of materials with high hardness coupled with moderate ductility is desired.

Název v anglickém jazyce

Pulsed-DC Magnetron Sputtering Process for Low Temperature Deposition of Hard Yet Moderately Ductile MoBC Coatings

Popis výsledku anglicky

Current state-of- materials nowadays used as protective coatings such as TiN, TiAlN, c-BN etc. generally exhibit high hardness and high stiffness. These positive features are often accompanied by undesirable brittle deformation behaviour. To overcome this limitation a new generation of materials with high hardness coupled with moderate ductility is desired.

Druh

O - Ostatní výsledky

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2016

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů